琢锐匠仪科学仪器(上海)有限公司

  • 1600℃真空气氛管式炉CVD系统(CVD-TF)

    【产品特点】产品特点 提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、等纤维等领域 此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 气体流量控制系统(ZLXT、ZKXT、FZXT)

    【产品特点】产品特点 设备为用户提供具有可控气氛的实验环境 配合真空气氛管式炉一起使用,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。 产品用途 该系列产品配合真...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 1600℃真空气氛管式炉(TF)系列

    【产品特点】产品特点: 气路连接方式采用快速连接法兰结构,装卸快捷方便,只需一个卡箍即可完成 炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制成,温场均匀节能50%以上 自主研发...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 1400°真空气氛管式炉(TF)系列

    【产品特点】1400℃真空/气氛管式炉(TF)系列 产品特点 提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域 使用温度范围 300...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 1400℃真空气氛管式炉CVD系统(CVD-TF)

    【产品特点】产品特点 提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境 此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 1200℃开启式真空气氛管式炉CVD系统(CVD-TF)

    【产品特点】产品特点 提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、 碳纤维等领域 使用温度范围 300~1200℃ 温度控制精度 1℃ 管径...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 1200℃开启式真空气氛管式炉(TF)系列低配版

    【产品特点】产品特点 气路连接方式采用快速连接法兰结构,装卸快捷方便,只需一个卡箍即可完成 炉膛分为上下两部分,上部分炉膛可后翻100,方便取放及观察物料 炉膛...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比
  • 1200°开启式真空气氛管式炉(TF)系列

    【产品特点】提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境 应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域,使用温度范围 300~1200℃,温度控制精度 1℃, 管径50608...
    型号: 所在地: 参考价: 面议 更新时间:2022/7/14 16:50:22 对比

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